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氧化鋁陶瓷刻蝕環是半導體干法刻蝕設備中的核心耗材,憑借材料特性成為晶圓加工的關鍵保障。其耐高溫與抗等離子體腐蝕能力尤為突出:在 1300℃以上的刻蝕環境中,95% 純度的氧化鋁陶瓷仍能保持結構穩定,可耐受氟基、氯基等強腐蝕性等離子體沖刷,使用壽命較金屬環延長 3-5 倍,大幅降低設備停機更換頻率。
半導體設備零件氧化鋁支撐環
半導體微晶玻璃零件
微晶玻璃等離子刻蝕設備腔體
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